機器分析センター 管理・運用設備

  • 機器分析センターで 管理・運用設備 を行っている設備です。装置群のバーをクリックすると設備が表示されます。
  • 利用に関しては機器分析センターまでお問い合わせください。

顕微鏡装置群

透過型電子顕微鏡(TEM)
日本電子 JEM-2010

極微少領域の形態観察、構造解析、元素分析が可能です。

設置場所 イノベーション支援センター本棟 1階
問い合せ 古澤 毅(工)、長谷川 和寿

電界放出型走査電子顕微鏡(FE-SEM, EDX)
日立 S-4500, 堀場 EMAX-5770

FE型で高倍率での微細構造観察が可能であり、EDXによる元素分析とマッピングにも対応しています。

設置場所 陽東10号館 3階 電子顕微鏡室
問い合せ 古澤 毅(工)、長谷川 和寿

低真空型走査型電子顕微鏡(LV-SEM)
日本電子 JSM-5610LV

生体試料等、低真空での微細構造観察に適する。大型サイズ(40mm角)のサンプルの観察が可能。

設置場所 陽東10号館 3階 電子顕微鏡室
問い合せ 長谷川 和寿

小型走査電子顕微鏡/エネルギー分散型X線分析装置(小型SEM)
キーエンス VE-7800/エダックス Genesis2000

一般的な小型のSEM。EDXによる元素分析にも対応。

設置場所 陽東10号館 電子顕微鏡室
問い合せ 長谷川 和寿

超深度形状測定顕微鏡 (LSM)
キーエンス VK-8500

レーザー共焦点光学系とCCDカメラにより観察物に忠実なカラー画像が得られ、凸凹の計測や透明膜厚測定が可能。

設置場所 陽東10号館 3階 電子顕微鏡室
問い合せ 長谷川 和寿

原子間力顕微鏡(AFM)
ビーコ NanoScopeV (MultiMode8,Dimension Icon)

試料表面を微細探針が走査して探針の動きをモニターします。探針掛かる力などから表面形状や物性のマッピング像が得られます。

設置場所 陽東10号館 1階 精密測定室
お問合せ 飯村兼一(工)、六本木 誠

共焦点レーザー顕微鏡(CLSM)
オリンパス FV-1000D,IX-81

レーザーを照射し焦点からの蛍光により焦点深度の深い鮮明な画像を取得。高さ方向の情報により3次元画像も取得可能。

設置場所 陽東1号館 114号室 学科共通機器分析室
問い合せ 加藤紀弘(工)、六本木 誠

X線分析装置群

単結晶X線構造解析装置(SCXRD)
ブルカー・エイエックスエス SMART APEX II

単結晶試料にX線を照射して原子回折像を取得。コンピューター解析により結晶構造(分子構造)の決定を行う。

設置場所 陽東10号館 3階 X線分析室
問い合せ 六本木 誠

粉末X線回折装置(XRD)
リガク Ultima IV

粉末試料の結晶性評価、結晶構造解析、結晶膜試料の配向性の評価等に用いる。

設置場所 陽東10号館 3階 X線分析室
問い合せ 長谷川 和寿

表面X線回折装置
スペクトリス X'Pert PRO MRDニクス EIS-200ER

薄膜の結晶構造,結晶配向,応力等を詳細に測定・解析する装置  

設置場所 オプティクスセンター4F 実験準備室4
問い合せ 佐久間洋志(工)

X線光電子分光分析装置(XPS)
アルバックファイ PHI 5000 VersaProbe II

試料表面にX線を照射して光電効果により発生する光電子の運動量を測定する。表面の化学種の同定、状態、組成に利用。

設置場所 陽東1号館 106号室
問い合せ 飯村兼一(工)、佐藤 喬

光電子分光分析装置
DAR400/EA125

Twin Anode X-ray源と半球型電子エネルギー分析器を備え、試料の前処理が可能。

設置場所 陽東10号館 1階 精密測定室
問い合せ 岩井秀和(工)、佐藤喬 

波長分散型蛍光X線元素分析装置(XRF)
リガク ZSX Primus II

精密な組成分析を行う装置 を詳細に測定・解析する装置  

設置場所 陽東10号館 3階 X線分析室
問い合せ 松本 太輝,佐藤 喬 

エネルギー分散型蛍光X線分析装置(XRF-EDS)
島津 EDX-720

試料にX線を照射し、発生する蛍光X線のエネルギーを解析し元素分析を行う。
固体、液体、紛体、フィルタ吸着物質・薄膜などの試料の構成元素をppmレベルから100%濃度まで定性・定量分析が可能。

設置場所 陽東2号館 117号室
問い合せ 佐藤剛史(工)

磁気共鳴分析装置群

500MHz 核磁気共鳴装置(NMR-500)
バリアン NMR-500

磁場中の試料にラジオ波を照射して核スピンからの信号を観測する。信号の処理を行い、試料の構造解析、定性、定量に利用。

設置場所 陽東10号館 1階 NMR室
問い合せ 六本木 誠

400MHz 核磁気共鳴装置(NMR-400)
日本電子 JNM-ECS400

磁場中の試料にラジオ波を照射して核スピンからの信号を観測する。信号の処理を行い、試料の構造解析、定性、定量に利用。

設置場所 峰8C-213(NMR室)
問い合せ 六本木 誠

電子スピン共鳴装置(ESR)
日本電子 JES-TE100

磁場中の試料にマイクロ波を照射して電子スピンからの信号を観測する。試料中のラジカルの定性、定量に利用。

設置場所 陽東10号館 3階 分光分析室
問い合せ 六本木 誠

質量分析装置群

ガスクロマトグラフ質量分析装置(GC-MS)
バリアン Saturn 2200

試料をガス化して含有成分を分離後、EI法によるイオン化で質量分析を行う。試料中の成分の定性、検索、同定、試料の純度、定量に利用。

設置場所 陽東10号館 2階 質量分析室
問い合せ 六本木 誠

マトリックス支援レーザー離脱イオン化飛行時間型質量分析装置(MALDIーTOF-MS)
ブルカー・ダルトニクス autoflex maX

試料をMALDI法によりイオン化し検出器までの到達時間の差で質量分析を行う。生体分子や巨大分子の分子量測定、定性に利用。

設置場所 陽東10号館 2階 質量分析室
問い合せ 六本木 誠

Triple-TOF型 質量分析装置(Triple-TOF-MS)
エービー・サイエックス TripleTOF5600+

フロントエンドにUPLCを備え、ESI法またはAPCI法により試料をイオン化し質量分析を行う。オミクス解析や合成化合物等の精密質量分析等に利用。

設置場所 陽東10号館 2階 質量分析室
問い合せ 六本木 誠

液体クロマトグラフ四重極-飛行時間型質量分析計(LC-Q-TOF-MS)
Waters Xevo G2-XS Q-TOF

設置場所 峰2号館3階 2B314 食品生化学実験室
問い合せ 二瓶賢一(農)、六本木 誠

分光分析装置群

円二色性分散計(CD)
日本分光 J-725

試料に直線偏光を照射し、左右の円偏光の吸収強度の差を測定する。試料の光学活性、立体構造解析に利用。

設置場所 陽東10号館 3階 分光分析室
問い合せ 加藤紀弘(工)、六本木 誠

フーリエ変換赤外分光光度計(FT-IR)
日本分光 FT/IR-4100

試料に赤外光を照射し、分子振動によるエネルギー吸収量を測定する。試料の定性、同定、構造解析、定量に利用。

設置場所 陽東10号館 3階 分光分析室
問い合せ 六本木 誠

赤外分光光度計
パーキンエルマー Frontier FT-IR

試料に赤外光を照射し、分子振動によるエネルギー吸収量を測定する。試料の定性、同定、構造解析、定量に利用。

設置場所 峰8C-212(機器分析室)
問い合せ 六本木 誠

紫外-可視分光光度計(UV-vis)
日本分光 V-660

試料に紫外可視光を照射し、電子遷移に伴うエネルギー吸収量を測定する。試料の定性、同定、定量に利用。

設置場所 陽東10号館 3階 分光分析室
問い合せ 六本木 誠

紫外可視赤外分光光度計
日本分光 V-670+ARMN-735

紫外から近赤外(波長0.25-2um)までの透過率と反射率を測定する装置
・入射角度を自動可変
・透過率や反射率から屈折率の推定可能 

装置詳細は以下URLをご覧ください(学内の装置管理者HPへリンク):http://www.ee.utsunomiya-u.ac.jp/yoda-lab/wp/2020/07/487/  

設置場所 オプティクスセンター4F 産学連携実験室2
問い合せ 依田秀彦(工) 

紫外-可視分光光度計
日立 U-3900

試料に紫外可視光を照射し、電子遷移に伴うエネルギー吸収量を測定する。試料の定性、同定、定量に利用。

設置場所 峰8C-212(機器分析室)
問い合せ 六本木 誠 

蛍光分光光度計(FL)
日本分光 FP-8300

試料を光で励起し、基底状態へ戻る際に出す蛍光量を測定する。試料の定性、同定、定量に利用。

設置場所 陽東10号館 3階 分光分析室
問い合せ 六本木 誠

赤外域-多入射角分光エリプソメータ
J.A.ウーラム ジャパン IR-VASE

近赤外から赤外(波長2-30um)までの光学定数を測定できる装置  

装置詳細は以下URLをご覧ください(学内の装置管理者HPへリンク):
http://www.ee.utsunomiya-u.ac.jp/yoda-lab/wp/2022/03/458/

設置場所 オプティクスセンター4F 産学連携実験室2
問い合せ 依田秀彦(工) 

成分分析装置群

誘導結合プラズマ発光分析装置(ICP-AES)
島津 ICPS-7500

溶液中の含有元素をpptレベルの高感度で定量分析することが可能。

設置場所 陽東10号館 3階 分光分析室
問い合せ 長谷川 和寿

高分解能ICP発光分光分析装置(ICP-OES)
アナリティクイエナ Plasma Quant PQ9000

溶液中の含有元素をpptレベルの高感度で定量分析することが可能。

設置場所 陽東10号館 3階 微量分析室
問い合せ 六本木 美紀、長谷川 和寿

高分解能原子吸光分析装置(AAS)
アナリティクイエナ ContrAA 800D・SSA600

元素ごとのランプを必要とせずに、液体試料でも固体試料でも前処理なしで多元素同時分析が可能。

設置場所 陽東10号館 3階 微量分析室
問い合せ 六本木 美紀、松本 太輝

CHN元素分析装置(CHN)
パーキンエルマー 2400 II

試料を高温化で閃光燃焼により燃焼分解し、試料中の有機物のC,H,N元素の量を測る。試料の組成や純度確認に利用。

設置場所 陽東10号館 2階 質量分析室
問い合せ 六本木 誠

ガスクロマトグラフ(GC)
島津 GC-2014

試料をガス化し、各成分と分離カラムの親和性の違いを利用して成分分離を行う。試料の純度や定量に利用。

設置場所 陽東10号館 3階 試料調製室
問い合せ 六本木 誠

物性評価装置群

熱重量・示差熱分析装置(TG-DTA)
リガクThermo Plus Evo II

加熱に伴う重量変化および吸発熱挙動の観測を行う。試料の熱分解、相変化挙動の観察や熱安定性の評価に用いる。

設置場所 陽東10号館 3階 微量分析室
問い合せ 佐藤剛史(工)、長谷川 和寿

粒子計測装置(DLS)
マルバーン Zetasizer Nano ZSP

微少粒子にレーザー光を照射して粒子の動きと散乱光の強度により粒子径分布を算出。電気泳動光散乱法によるゼータ電位、静的光散乱法による分子量測定も可能。

設置場所 陽東10号館 3階 分光分析室
問い合せ 六本木 誠

レーザー回折/散乱式粒子径分布測定装置(SLS)
堀場 LA-950

試料にレーザーを照射し、試料中の粒子から観測された角度による散乱光の強度により粒子径分布を算出。

設置場所 陽東10号館 3階 分光分析室
問い合せ 六本木 誠

屈折率計(RI)
アントンパール Abbemat 500

プリズムと接触した試料に光を照射し、反射光から臨界角を求め、屈折率が決定される。屈折率、Brix値(糖度)、濃度等の測定に利用。

設置場所 陽東10号館 3階 分光分析室
問い合せ 六本木 誠

粘度計
エー・アンド・デイ SV-1A

音叉振動式。液体中で振動子を共振させ、振動子を一定振幅で動かすのに必要となる加振力から粘度を測定。センサの交換なしで低粘度から高粘度まで連続測定可能。

設置場所 陽東10号館 3階 分光分析室
問い合せ 六本木 誠

光磁気効果測定超高感度磁力計
レイクショア 7404型

薄膜の結晶構造,結晶配向,応力等を詳細に測定・解析する装置  

設置場所 オプティクスセンター4F 実験準備室4
問い合せ 佐久間洋志(工)

表面加工装置群

リアクティブイオンエッチング装置
アルバックイーエス CE-300I型

CF4やCHF3のプラズマ中で誘電体や磁性体の異方性エッチングを行ない,微細光デバイスを作製する装置 

装置詳細は以下URLをご覧ください(学内の装置管理者HPへリンク):
http://www.ee.utsunomiya-u.ac.jp/yoda-lab/wp/2020/07/478/

設置場所 CDI棟1F 超薄膜構造解析室2
問い合せ 依田秀彦(工)

ラッピングマシーン
日本エンギス EJ200I

ガラスの研磨を行うための装置

設置場所 オプティクスセンター4F 産学連携実験室1
問い合せ 手塚慶太郎(工)、依田秀彦(工)

学内共用設備

  • 宇都宮大学研究設備新共用システムに登録されている設備です。装置群のバーをクリックすると設備が表示されます。
  • 学内共用設備の利用に関しては各設備の管理者にお問合せください。

顕微鏡装置群

走査型トンネル顕微鏡システム
TOP System3

表面構造を原子分解能で観察。装置内超高真空により、大気中不純物及び表面酸化の影響無くトンネル電流測定可能(同一装置内前処理可)

設置場所 陽東2号館 1階 107号室
問い合せ 岩井秀和(工)

小型走査電子顕微鏡/エネルギー分散型X線分析装置
キーエンス VE-9800

3Dリアルサーフェスビュー顕微鏡
電子銃:Wヘアピン型フィラメント 検出器:二次電子検出器
倍率:15~100,0000倍 最大資料寸法:64mm径 最大厚さ30mm
観察機能:3Dによる回転観察、形状測定 分解能:8nm
画像寸法:260×195mm(観察時)120×90mm(撮影時)

設置場所 
問い合せ 丸岡 正知(地)

走査型プローブ顕微鏡
島津製作所 SPM-9600

デバイスの表面形状評価など、表面のナノ領域で,凹凸,化学的特性,電気的特性を計測する装置

  

設置場所 オプティクスセンター4F 産学連携実験室2
問い合せ 早崎芳夫(工) 、長谷川智士(工)

レーザー顕微鏡
オリンパス OLS4000-SAT 

横方向の分解能が高い計測を行う時に利用できる共焦点光学系を利用した表面形状計測装置

  

設置場所 オプティクスセンター4F 産学連携実験室2
問い合せ 早崎芳夫(工) 、長谷川智士(工)

卓上SEM
日立 TM3000

数十ナノメートル程度のサイズの計測を行う小型の電子顕微鏡
エネルギー分散型X線分析装置が組み込まれており、形状観察とともに元素分析が可能 

  

設置場所 オプティクスセンター4F 産学連携実験室2
問い合せ 早崎芳夫(工) 、長谷川智士(工)

表面形状測定装置群

触針式表面段差計
アルバック Dektak150

触針式表面形状測定器。試料表面の形状(1次元プロファイル)や曲率半径,また基板上に成膜された薄膜の膜厚(段差)や表面粗さなどを計測できる.
主な仕様・測定実績については以下(学内の装置管理者HPへリンク):
http://www.ee.utsunomiya-u.ac.jp/yoda-lab/wp/2020/07/490/

設置場所 陽東4号館 4階 407号室
問い合せ 依田秀彦(工)

白色光干渉顕微鏡
Veeco Wyko NT9100

光の干渉現象を利用した非接触・非破壊の表面形状計測装置。広い視野領域の試料表面形状(3次元プロファイル)を10秒前後で計測でき,段差・粗さ・曲率半径などの解析機能も備える.
主な仕様・測定実績については以下(学内の装置管理者HPへリンク):
http://www.ee.utsunomiya-u.ac.jp/yoda-lab/wp/2020/07/492/

設置場所 陽東4号館 4階 407号室
問い合せ 依田秀彦(工)

干渉計測装置
Zygo NewView7300

デバイスの表面形状評価など、奥行き方向の分解能が高い計測を行う干渉計を利用した表面形状計測装置 

  

設置場所 オプティクスセンター4F 産学連携実験室2
問い合せ 早崎芳夫(工) 、長谷川智士(工)

質量分析装置群

ガスクロマトグラフ質量分析装置
アジレント 7890B+5977B

香気成分等の揮発性物質の同定および定量を可能とする唯一の装置である。揮発性成分をガスクロマトグラフ(GC)により分離し、質量分析計(MS)により分子量とフラグメントイオンから物質を同定し、ピーク面積から定量することができる。また、多機能オートサンプラー(PAL)を備えているため、全自動分析も可能である。

設置場所 峰3号館 1階 大型機器室
問い合せ 謝 肖男  (農)

物性評価装置群

比表面積・細孔分布測定装置
カンタクローム NOVA1200e

高速かつ高い処理能力にて表面積,細孔容積,細孔径分布を測定できる真空式のガス吸着装置

設置場所 陽東2号館 1階 109号室
問い合せ 古澤毅(工)

ナノ粒子解析装置
堀場 SZ-100-ZUU

10×10mm角型セルに作成したゲルの空孔サイズ分布を光散乱により決定する測定装置

設置場所 陽東1号館 1階 116号室 ソフトマテリアル実験室(3)
問い合せ 加藤紀弘(工)

アドバンスキャピラリー電気泳動システム
AB SCIEX PA800s plis PDAディテクタ搭載システム

10kDa-225kDaのタンパク質混合試料をSDS法により分離しUV検出する分子量解析システム

設置場所 陽東1号館 1階 116号室 ソフトマテリアル実験室(3)
問い合せ 加藤紀弘(工)

多角度光散乱検出器
米国WyattTechnolgy社 DAWN HELEOS8

水溶性高分子等の分子量解析システムで水系溶媒のみ対応するサイズ排除クロマトグラフィーシステム。

設置場所 陽東1号館 1階 116号室 ソフトマテリアル実験室(3)
問い合せ 加藤紀弘(工)

加工・表面加工装置群

CO2/ファイバーレーザー加工機
トロテック・レーザー・ジャパン Speedy 100 Flexx

CO2レーザーとファイバーレーザーの2種類のレーザー光源を1台のマシンに統合したレーザー加工機。
CO2でアクリルのカットと木材の彫刻、ファイバーで金属のマーキングの加工が、マシンを止めることなく、一つの工程で行うことが可能。

設置場所 オプティクス教育研究センター 2F 工学実験室C
問い合せ 早崎芳夫(工)、長谷川智士(工)

レーザー加工機
bodor i3 BCL-0505FX

IPGレーザー発振器を採用したレーザー加工機
最大加工寸法: 幅500 × 奥行500mm、位置精度 :0.01
加工可能素材:鉄 ステンレス 銅 (各厚さ2mmまで)
      :アルミ (厚さ1mmまで)
必要データ:DXF形式

設置場所 ロボティクス・工農技術研究所 1階 FabLab(108)
問い合せ 尾崎 功一(工)

電子ビーム描画装置
エリオニクス ELS-7800OP

ナノ光学デバイス開発に用いるナノ構造加工装置

設置場所 CDI棟3F 超微細構造制作実験室(クリーンルーム)
問い合せ 茨田大輔(工)

多元スパッタ装置
FEP PSOC400

世界最先端の矩形波パルスデュアルスパッタ源を搭載した光学膜用コーター

装置詳細は以下URLをご覧ください(学内の装置管理者HPへリンク):
http://www.ee.utsunomiya-u.ac.jp/yoda-lab/wp/2020/07/473/

設置場所 オプティクスセンター4F 産学連携実験室1
問い合せ 依田秀彦(工)、佐久間洋志(工)

イオンエッチング装置
エリオニクス EIS-200ER

ナノデバイスを作製するためAr,Xeの不活性ガスを用いて,レジストや半導体の加工を行う装置 

設置場所 CDI棟1F 超薄膜構造解析室2
問い合せ 茨田大輔(工)

その他

CW単一周波数チューナブルTi:Sレーザーシステム
Mスクエアレーザー SolsTiS-SRX-R

超小型で自動波長可変の
CW(連続発振)単一周波数チタンサファイアレーザ。
優れた周波数安定性、高出力(最大800mW)・広帯域(750nm-850nm)
・極低ノイズ(0.055 %)を実現。

設置場所 オプティクス教育研究センター 1階 光学実験室B
問い合せ 茨田大輔  (工)

凍結融解試験装置
マルイ MIT-684-1-16

コンクリートや建材の耐凍害性を調べる耐久性試験装置。
水分の凍結による膨張作用による破壊耐性を測定

設置場所 
問い合せ 丸岡 正知(地)

3Dプリンタ
ストラタシス OBJET EDEN 260VS

インクジェット方式の3Dプリンター
積層ピッチ0.032mm(高速造形モード)
積層ピッチ0.016mm(高精細モード)
加工可能サイズ:幅255mm x 奥行252mm x 高さ200mm
モデル素材:RGD720 アクリル系硬質樹脂 半透明の黄色
サポート素材:SUP705 ジェル状サポート(除去作業のためのウォータージェット装置あり)
必要データ:STL形式

設置場所 ロボティクス・工農技術研究所 1階 FabLab(108)
問い合せ 尾崎 功一(工)

フラッシュGCノーズ
アルファ・モス・ジャパン HERACLESⅡ

超高速GCを基盤とした電子嗅覚システム。
直接吸引により食品分析だけでなく、環境分析などフィールド分析にも利用可能。

50ml/min, ゼロエア:FID 用
トラップ:ペルチェ制御付(5~ 260 ℃)固体吸着剤 (10mg Tenax), 動作環境:温度範囲:0 ~ 35℃, 相対湿度:0 ~ 90%(結露なきこと),保管温度範囲: -20 ~ 60 ℃, 操作制御:USB

設置場所 ロボティクス・工農技術研究所 1階 機器分析室(106)
問い合せ 尾崎 功一(工)、柏嵜 勝(付属農場)

電子味覚システム
アルファ・モス・ジャパン ASTREE

溶液中の味覚刺激に作用する複合成分を、7本のセンサーによる応答パターンとして取得し、基準試料との比較、あるいは官能評価との相関モデルから、味の数値化を行う。
測定対象項目:センサー選択性を利用した「酸味」,「塩味」,「うま味」、標準物質添加法による「甘味」,「苦味」,「コク」,「辛味」・・・など自由設計可能 官能評価用語に基づく「~らしい味」など(相関データより算出)

設置場所 ロボティクス・工農技術研究所 1階 機器分析室(106)
問い合せ 尾崎 功一(工)、柏嵜 勝(付属農場)

ビジュアルアナライザー
アルファ・モス・ジャパン IRIS VA400

食品などの複雑かつ不均一なサンプル表面の見た目(外観)を数値化するシステム。サンプルを高解像度CMOSセンサーで撮影、細分割されたサンプル表面の色や大きさのばらつきを、パターン認識ソフトウェアにより解析。

設置場所 ロボティクス・工農技術研究所 1階 機器分析室(106)
問い合せ 尾崎 功一(工)、柏嵜 勝(付属農場)